silicon dioxide

These reactions can be performed by interaction of the components from the gas phase with the surface of the microchip, for example in thermochemical oxidation of silicon with formation of a silicon dioxide layer.

Возможно проводить указанные реакции путем взаимодействия компонентов из газовой фазы с поверхностью микрочипа, например термохимическое окисление кремния с образованием слоя оксида кремния.

http://www.patentlens.net/ 11/22/2011

http://www.patentlens.net/ 11/22/2011

The whole area of the silicon substrate was covered by silicon dioxide SiO2 by thermochemical oxidation.

На кремниевую подложку по всей поверхности был нанесен слой оксида кремния SiO2 методом термохимического окисления.

http://www.patentlens.net/ 11/22/2011

http://www.patentlens.net/ 11/22/2011

Finally, a part from the wafer is removed with the formation of the membrane from the silicon dioxide—stage III).

Затем часть указанной пластины удаляется с образованием мембраны (из окисла кремния - этап III).

http://www.patentlens.net/ 11/11/2011

http://www.patentlens.net/ 11/11/2011

Gaseous phase from the 1st stage is supplied to the 2nd flame reactor 15 simultaneously with silicon dioxide, which is supplied with 70-80% of mass excess.

При подаче во второй пламенный реактор 15 газообразной фазы с 1-ой стадии одновременно в него осуществляют подачу диоксида кремния, который подают с 70-80%-ном мае. избытком.

http://www.patentlens.net/ 11/1/2011

http://www.patentlens.net/ 11/1/2011

Here, a thin film of a future stage is formed on the surface of the wafer (e.g., of silicon stage I). Then, the film is oxidized (silicon dioxide SiO2 is formed—stage II).

Здесь на поверхности пластины (например, кремния Si - этап I) формируется тонкая пленка будущего предметного столика (например, путем окисления образуется окисел кремния SiO2 - этап II).

http://www.patentlens.net/ 11/11/2011

http://www.patentlens.net/ 11/11/2011

The silicon substrate covered with the silicon dioxide was cleaned in a mixture of concentrated sulfuric acid and hydrogen peroxide (3:1) during 20 minutes.

Кремниевая подложка с нанесенным слоем SiO2 была очищена в смеси концентрированной серной кислоты и пероксида водорода (3:1) в течение 20 минут.

http://www.patentlens.net/ 11/22/2011

http://www.patentlens.net/ 11/22/2011

Grains are manufactured from a natural bauxitic clay of the following composition (in dry state): 16-19% of silicon dioxide, 79-80% of aluminum oxide and less than 0.35% of oxides of alcaline and alkaline-earth metals.

Гранулы изготовлены из природной бокситовой глины, которая имеет следующий состав (в расчете на безводное состояние): 16-19% кремнезема, 79-80% глинозема и меньше 0,35% окислов щелочных и щелочно-земельных металлов.

http://www.patentlens.net/ 11/22/2011

http://www.patentlens.net/ 11/22/2011

There are ways of production of silicon tetrafluoride by its synthesis from silicon dioxide and fluorine containing reagents, e.g. natrium fluoride, anhydrous hydrogen fluoride, fluoride of lead, etc.

Известны способы получения тетрафторида кремния путем синтеза его из диоксида кремния и фторсодержащих реагентов, например, фторида натрия, фтористого водорода, фтористого свинца и др.

http://www.patentlens.net/ 11/1/2011

http://www.patentlens.net/ 11/1/2011

The initial material of silicon tetrafluoride production is natural quartzite, quartz sand or another raw material, containing silicon dioxide in large quantity.

Исходным материалом получения тетрафторида кремния является природный кварцит, кварцевый песок или другое сырье, содержащее в большом количестве диоксид кремния.

http://www.patentlens.net/ 11/1/2011

http://www.patentlens.net/ 11/1/2011

Mixture of not less than 2 substances, selected from the following group—talc, starch, dextrane, starch syrup, magnesium oxide, colloid silicon dioxide, cellulose or its derivatives, lactose or its derivatives—is used as powdered or tablet basis.

В качестве порошковой или таблеточной основы используют смесь не менее 2-х веществ, выбранных из группы: тальк, крахмал, декстран, крахмальная патока, оксид магния, коллоидный диоксид кремния, целлюлоза или ее производные, лактоза или ее производные.

http://www.patentlens.net/ 11/11/2011

http://www.patentlens.net/ 11/11/2011

This material is more strong than silicon dioxide.

Этот материал является более прочным по сравнению с окислом кремния.

http://www.patentlens.net/ 11/11/2011

http://www.patentlens.net/ 11/11/2011

Fillers: soy oil and/or lecithin, and/or silicon dioxide

Наполнители: соевое масло и /или лецитин, и/или диоксид кремния.

http://www.patentlens.net/ 11/10/2011

http://www.patentlens.net/ 11/10/2011